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| POT-MPh |
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| Die Abteilung Plasmaoberflächentechnik und Materialphysik be- schäftigt sich mit der vakuumgestützten Abscheidung, der Ober- flächenmodifikation und der Charakterisierung von Materialien bzgl. deren physikalischen und chemischen Eigenschaften. Die Schichtabscheidung und Oberflächenmodifikation erfolgt mittels PVD (Physical Vapor Deposition) und PACVD (Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition). Die Laboranlagen sind ausgestattet für Magnetron Sputtern, kathodisches Lichtbogenverdampfen, Elektro- nenstrahl-Verdampfen, thermisches Verdampfen, Plasmastrahlbe- schichtung und gepulste CVD. Diese Verfahren bieten ein breites Spektrum an Möglichkeiten zur Modifizierung der Abscheideparameter und ermöglichen die Beschichtung verschiedenster Materialien (Stähle, Hartmetalle, Metalle, Kunststoffe, Keramiken, Glas). Die Anwendungsgebiete der Beschichtungen reichen vom Verschleiß- und Korrosionsschutz über dekorative Anwendungen bis hin zu magnetischen Speichermedien, Sensoren und Katalyse. Für zahlreiche Untersuchungsmethoden auf dem Gebiet der Plasma- Oberflächentechnik ist das fem als akkreditiertes Prüflabor nach DIN EN ISO/IEC 17025 anerkannt. Download Plasma-Oberflächentechnik - Materialphysik als pdf-Datei (227 KB) |
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